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習(xí)近平考察武漢,強(qiáng)調(diào)要充分發(fā)揮人才優(yōu)勢

來源:新華網(wǎng)
2018-04-26 20:16:55
 
 

習(xí)近平考察武漢,強(qiáng)調(diào)要充分發(fā)揮人才優(yōu)勢

攝影:鞠鵬

習(xí)近平考察集成電路生產(chǎn)線:一些重大核心技術(shù)必須靠自己攻堅(jiān)克難

26日上午,習(xí)近平來到武漢新芯集成電路制造有限公司,察看集成電路生產(chǎn)線,了解芯片全流程智能化制造和加快國產(chǎn)化進(jìn)程等情況。習(xí)近平說,要實(shí)現(xiàn)“兩個(gè)一百年”奮斗目標(biāo),一些重大核心技術(shù)必須靠自己攻堅(jiān)克難。機(jī)遇前所未有,挑戰(zhàn)前所未有。所有關(guān)鍵崗位、重要產(chǎn)業(yè),都要有一份責(zé)任感、使命感。每個(gè)人都要在各自的崗位上,為實(shí)現(xiàn)中華民族偉大復(fù)興中國夢作出貢獻(xiàn)。

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